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日本AMAYA株式會社天谷制作所——半導體設備

日期:2025-12-09 01:18
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摘要: 常壓CVD裝置 準備了滿足顧客需求的產品陣容。同時,定做也對應。 <產品特征> 對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途 從少量生產到大量生產 形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種 采用SiC托盤防止重金屬污染,從低溫(200℃)到中溫(500℃)區域可以廣泛成膜 A200V 單片式常壓CVD裝置 AMAX800V 8英寸連續式量產用常壓CVD裝置 ...


常壓CVD裝置

準備了滿足顧客需求的產品陣容。同時,定做也對應。


<產品特征>

對應于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途

從少量生產到大量生產

形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種

采用SiC托盤防止重金屬污染,從低溫(200℃)到中溫(500℃)區域可以廣泛成膜



A200V 單片式常壓CVD裝置




AMAX800V

8英寸連續式量產用常壓CVD裝置




AMAX1200

12英寸連續式量產用常壓CVD裝置




A6300S

小口徑晶圓連續式量產用常壓CVD裝置


定制裝置





D501

間歇式常壓CVD裝置



太陽能電池用裝置




AMAX1000S

125mm/156mm太陽能電池量產用連續式常壓CVD裝置



玻璃基板成膜裝置




對應FPD等剛性/撓性器件的常壓CVD裝置

蘇公網安備 32050502000409號

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